接触式光刻机汞灯电源功率大幅波动故障处理
接触式光刻机汞灯电源功率大幅波动故障处理
光刻机同步控制卡DSP与FPGA通信方案设计
基于平面光栅尺的光刻机工件台位置测量技术研究 郑亚忠 2017年
为了提高光刻机硅片台和掩模台的运动精度,建立光刻机精密运动平台的儿何及运动误差模型。引入低序体阵列描述光刻机的拓扑结构,采用齐次坐标变换表达多体系统中典型体的几何和运动误差,应用多体系统运动学建立了系统...
浸没式光刻机是目前在45nm以下IC生产线上唯一获得应用的新光刻装备。浸没控制系统是浸没式光刻机的核心子系统之一,用于在最后一片投影物镜和硅片之间,提供并维持具有高度洁净度与稳定性的缝隙流场,利用高折射率...
分析了步进扫描投影光刻机的同步运动过程,将各个分系统分为同步主系统和同步从系统,采用串行同步总线实现了同步主系统的状态发布;分析了分系统与自身数据采集系统的同步通信,采用高速串行传输链路实现了分系统与...
在芯片领域,有一样叫光刻机的设备,不是印钞机,但却比印钞机还金贵。 历数全球,也只有荷兰一家叫做阿斯麦(ASML)的公司集全球高端制造业之大成,一年时间造的出二十台高端设备,台积电与三星每年为此抢破了头...
UT光刻机警报灯设计与安装毕业论文.doc
本文介绍的扫描投影光刻机光学系统,包括:两个同心球面镜组成的环带视场投影系统、三个相互垂直平面镜构成的正象反光镜组、全反射式高质量装光系统和连续变倍观察瞄准系统四部分。对各部分,文中不仅有理论计算和象差...
为减小双工件台光刻机的换台时间,提出了一种改进5阶S轨迹和时间一冲击最小控制算法.分析了双驱双桥换台策略,曝光位和预对准位的两个工件台依次执行5个点对点运动完成换台过程,在常规数值积分S轨迹设计方法中,...
我国自行设计制造的JKG-3型半自动光刻机在沪通过鉴定 (1981年)
主要介绍了大规模集成电路制造...首先,在调研光刻机的研发和生产情况的基础上讨论了国内外光刻技术的现状;其次,重点分析了目前用于提高光刻机性能的各种关键技术;最后,简要介绍了下一代光刻技术的研究进展和发展方向。
2019年,尼康总共销售了47台光刻机,占全市场的13%,还不如自己的难兄难弟佳能。不过虽然佳能销售了82台,但是集中在第一、第二代古老的光刻机,别说高端市场,连中端市场都没什么存在感。 初局 尼康起高楼,...
光刻机是IC器件制造的关键设备之一,其工件台的高速度和高定位精度是获得高质量光刻和高效率的重要条件.本文通过对光刻机工件台运动速度模式、运动轨迹和定位误差补偿以及现代运动控制技术和网络监控技术的研究,...
光刻机结构及工作理光学光刻-概述| ScienceDirect主题2023年先进光刻+图案化反映的EUV生态系统的演变光学课堂-课程中心 光学课堂MDPI -开放访问期刊的发布者蚀刻机。搜索。IOP科学平版印刷机|自然搜索结果Search | ...
研究一种步进扣描投影光刻机的步进运动与扫描运动的轨迹重叠规划算法。根据给定的系统动力学约束,以保证最大加速度与最大速度不超限为目标,建立步进运动与扣描运动轨迹重叠规划的约束基准。依据该基准,分析步进...
本文从瑞利一索末菲衍射公式出发,对接近式光刻机曝光系统进行理论分析和计算,得出其光学性能参数。同时给出依据这些参数所设计的系统所得的结果。
叙述了340光刻机发生畸变的原因,并解释了什么是交叉畸变,什么是扫描畸变,并对如何进行两台340光刻机的匹配进行了探讨。最后给出了试验数据。
利用有限元分析理论和模态分析理论,分析了高分辨光刻机主基板的动态特性,分析结果表明主基板结构设计合理。结合模态试验,验证了主基板有限元模型的正确性。利用该有限元模型,进行了灵敏度分析,还进一步实现了主...
资料来源:知乎、大数据文摘、传感器技术等物联网智库 整理发布转载请注明来源和出处导 读中国苦“芯”久矣!中国慕“光刻机”亦久矣!如果我们真的在核心技术领域取得了重大进展,那确实值得大书...
提出一种基于支持向量机(SVM)及遗传算法(GA)的集成电路版图光刻热点检测方法 。首先对版图样本进 行离散余弦变换(DCT)以提取样本的频域特征,然后基于这些样本训练 SVM分类器以实现对光刻热点的检测 。为 了提高光刻...
使用基于DMD的剂量调制光刻技术制作六角形复眼微透镜阵列
杨净 金磊 发自 凹非寺量子位 报道 | 公众号 QbitAI投资超千亿、运行三年的芯片项目,被官方披露陷入「烂尾」危机。连价值5.8亿元,大陆唯一一台7nm光刻机都被拿来作抵押。在国产...
使用基于DMD的光刻技术快速制造弯曲微透镜阵列
光刻基础
ASML光刻机简介,准备周末更新。